俄羅斯制造出了光刻機，正在進行緊張的測試，光刻機的神秘面紗要被扯下來了？

近日，俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西裏-什帕克稱：“我們組裝並制造了第一台國産光刻機，該設備可確保生産 350nm的芯片，目前正在對其進行測試。”

俄羅斯接下來的目標是在 2026 年制造可以支持130nm工藝的光刻機。

其實俄羅斯制造光刻機並不是什麽新鮮事，早在2022年俄羅斯科學院物理研究所就表示，正在研發半導體光刻設備，當時還誇下海口，要在2028年打造出支持7nm芯片的光刻機。

350nm光刻機意味著什麽？

很多網友一看到350nm，估計從心裏就産生了鄙視的想法，因爲自己每天都使用的蘋果手機芯片都是4nm，領先了十幾代，跨越了25年時間。

現在的350nm芯片還能幹什麽？很多“傻大粗”領域都已經把芯片升級至60nm、45nm了，性能變強、能耗降低、功能更多，何樂而不爲呢？

至于安全性，60nm、45nm芯片可能更安全，因爲它設計了大量的冗余、自檢測、備用電路、防輻射、防水防潮等。

那俄羅斯的光刻機還有什麽用呢？短期來看，可以使用在要求較低、使用時間較短的設備上，更主要的是使用在武器上。

戰鬥機、巡航導彈、主戰坦克都可以。

F-22戰鬥機號稱第一款5代戰機，早期都采用IBM公司的PowerPC 603芯片，工藝制程500nm，晶體管數量260萬個，主頻爲66MHz，主內存8M，但誰也不敢小看它。技術和安全穩定性成熟後，才替換到45nm。

巡航導彈、主戰坦克使用低端芯片也足夠，一樣能把仗打贏，甚至350nm芯片應用都敢用在無人機上，無非就是延遲、卡頓、機動性下降，打擊效果差點。

汽車、能源、電信領域也在使用350nm芯片，大部分功能也都能實現。

所以，對于俄羅斯來講，350nm就是保證自己的軍事、工業、能源、通信的正常使用，不至于癱瘓。

但這絕不是說軍事領域不需要先進芯片，在確保安全、防輻射、防潮、防水功能下，自然是越先進越好。

現在的導彈、炮彈已經不走直線和簡單的抛物線了，而是無規則的曲線，無法預判、無法攔截，只能被動挨打。但前提是你的武器夠先進、芯片夠先進、算力夠強大。

俄羅斯不是不想制造先進的光刻機、先進的芯片，而是實力不允許，蘇聯解體後，大量的科學家、工程師、技術人員被美國“掠奪”。

之後，遭遇了漫長的經濟打壓封鎖，先進的光刻機，不要設備、配件，連一顆螺絲都賣給你，你怎麽造高端光刻機？

隨著俄烏戰爭的爆發，俄羅斯逐漸意識到，先是經濟封鎖之後，再是軍事行動，最終目的就是讓你徹底消失。

所以再繼續吃以前的老本不行了，核彈、洲際導彈、航空母艦、戰鬥機、轟炸機、無人機都在升級，都需要強大的技術和經濟支持。

所以俄羅斯要改變目前的現狀，走出戰爭泥潭，重新走向發展的道路，必須要搞自主研發，搞技術升級，而芯片作爲一切技術的基礎，是最急需解決的。

而光刻機又是制造芯片的必需設備，所以攻克光刻機成爲了俄羅斯的當務之急。

對ASML有什麽影響？

我們都知道ASML是光刻機的龍頭企業，市場份額超過了80%，其中DUV光刻機份額占比超過了93%，EUV光刻機市場份額達到100%，直接壟斷。

我們所熟悉的台積電、三星、中芯國際、英特爾、SK海力士、長江存儲等晶圓企業都采用了ASML的光刻機。

我們日常所使用的手機，蘋果、三星、華爲、小米、OPPO、vivo的芯片都是由ASML的光刻機制造出來的。

可以說ASML就是光刻機的代名詞，排在ASML後面的是日本尼康、佳能，但是與ASML相比，這兩家也差得很遠。

俄羅斯光刻機剛起步，即便是ASML躺平10年，俄羅斯的光刻機也不會對其産生威脅。

台積電和三星已經利用ASML的EUV光刻機造出了3nm、甚至2nm芯片，今年初，ASML又向英特爾移交了最新的High NA EUV光刻機，比之前的光刻機精密程度更進一步，其目的是制造1nm以下工藝芯片。

而俄羅斯芯片才剛剛進入350nm階段，這裏面的巨大差距可以說無法跨越。

能夠讓ASML感到擔憂的，恐怕只有中國的光刻機了。

目前國産光刻機實現商用的是上海微電子的S600系列，分辨率達到了90nm，主要用來制造90nm光刻機。

當然如果犧牲一下良品率、性價比的話，多重光刻後也能制造45nm芯片，但是整體意義並不大，畢竟采用ASML的光刻機可以輕松實現45nm工藝，制造效率高，也更節省資金。

但是90nm芯片根本不夠用，而且隨著時間的推移90nm以上芯片使用場景會越來越少。

IC Insights預計，2024年采用20nm以下制程的芯片産品市場份額將達到56.1%，而2016這個數字爲12%，2019年爲43%。

所以，國産光刻機必須盡快攻克28nm光刻機，完成28nm國産芯片全産業鏈。

多家媒體透露，國産28nm光刻機已經攻克，並且造出了樣品機，目前正在測試階段，相信不久就會與大家見面。

核心部件光源、雙工作台、浸沒系統、光學鏡片均來自國産。

光源由北京科益虹源打造，以CO2激光器爲基礎，得到基頻光，再放大，最終得到193nm紫外光。

雙工作台：由清華大學和華卓精科共同打造，可用于28nm光刻機，升級後可用于14nm、7nm芯片制造。

浸沒系統：由浙江啓爾機電打造，溫度誤差達到了0.001度，符合國際先進水准，也滿足28nm光刻需求。

光學鏡片：由中科院長春光機所制造，盡管與德國蔡司還有不小的差距，但也算達到了28nm光刻機的要求。

28nm光刻機攻克後，就會全力沖刺EUV光刻機，一旦EUV光刻機實現國産化，那麽5nm、4nm芯片就指日可待了。

ASML很清楚中國的實力，尤其是中國集中力量辦大事的能力，如果中國的28nm光刻機成熟、量産後，就意味著這塊的生意它做不成了。

以前它一家獨大，DUV光刻機賣到5000多萬，如今中國貨來了，性能好，價格只有2000萬，你說晶圓廠會買誰的。

所以ASML總裁溫甯克表示：中國自主研發光刻機是“破壞”全球産業鏈。這是真的急了啊！

總的來說，俄羅斯自主研發光刻機是一件好事，因爲這意味著更多的國家開始反抗美西方的半導體制裁，只要有突破，就會減少依賴。

如果更多的國家開始自主研發光刻機的話，那麽這些國家也可以聯合起來，打造一個EUV聯盟，共同攻克關鍵技術，擺脫“卡脖子”，實現半導體産業的自主化。

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