國産光刻機終于等到機會了！ASML公司承認，EUV光刻機或走到頭了

一直以來，芯片和操作系統都是中國科技面前的兩座“大山”，美西方憑借著領先技術，對中國科技企業實施了長期打壓。尤其在光刻機領域，中國芯也陷入了“卡脖”的困境。

沒有光刻機，就沒有辦法生産芯片，尤其先進芯片。就目前來說，要生産7nm以下制程的先進芯片，就必須要有EUV光刻機。關于EUV光刻機，除了價格極其昂貴，産能有限外，全世界也只有一家公司能夠制造，它就是ASML公司。

基于此，爲了限制中國芯片産業的崛起，美西方就不斷對ASML公司施壓，限制其對華出口光刻機。在過去這些年裏，中國芯幾乎是“夾縫中求存”，只能采購一些“過時”的光刻機設備，且需要花費高額的費用。

但值得慶幸的是，盡管咱們依賴光刻機進口，但也沒有放棄自研。美打壓也變成了激勵，中國科技企業加強了自主研發，增加了科研投入，就是想要打造屬于自己的國産光刻機，時刻准備著。而從目前傳來的新消息來看，拐點已經到了！

近日，ASML公司前高管公開承認，EUV光刻機或走到盡頭了。這就意味著，國産光刻機終于等到了機會。一方面，ASML公司在技術方面的優勢將會縮小，另一方面，國産光刻機廠商也擁有了更多的機會和時間來縮小差距，負負得正，這對于國産光刻機的發展是有利的。

客觀來說，EUV光刻機確實已經沒有“奔頭”了，如今傳統硅芯已經接近臨界點，技術難度高、工藝複雜，再加上EUV光刻機造價太高，這就導致1nm-2nm芯片的成本會相當高，從經濟角度來思考，硅芯時代已經幾乎走到頭了，那麽EUV光刻機的用途也就大打折扣了。

現如今，很多半導體廠商都在尋找新賽道、新工藝和新材料，就是想要繞開傳統硅芯，開啓全新的芯片時代，搶先搶占市場，比如光子芯片、量子芯片、玻璃芯片等等，都被寄予厚望。而無論在哪一個賽道，EUV光刻機都不再那麽重要，這就意味著，只要我們能夠生産出國産光刻機，就有機會可以實現芯片的自給自足，不再依靠進口，從而真正實現獨立自主。

截止到目前，中國芯已經傳來了不少好消息，其一，中芯國際已經完成了7nm制程工藝，且加快了5nm制程工藝的研發，進一步縮小了和國際頂尖水平的差距。其二，上海微電子傳出實現了28nm光刻機技術突破的消息。其三，“國家隊”鼎力支持，中國半導體發展第三期大基金確定，將投入3400億元，助力中國半導體産業發展。很顯然，中國芯擁有“天時地利人和”，正在往積極的方向發展。